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The relationship between deposition conditions, the beta to alpha phase transformation, and stress relaxation in tantalum thin films
Journal of applied physics, 1992-11, Vol.72 (10), p.4918-4924
1992
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Open Access
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Nucleation-limited phase selection during reactions in nickel/amorphous-silicon multilayer thin films
Journal of applied physics, 1990-02, Vol.67 (3), p.1325-1333
1990
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Comparison of high vacuum and ultra-high-vacuum tantalum diffusion barrier performance against copper penetration
Journal of applied physics, 1993, Vol.73 (1), p.300-308
1993
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Kinetic analysis of C49-TiSi2 and C54-TiSi2 formation at rapid thermal annealing rates
Journal of applied physics, 1992-11, Vol.72 (10), p.4978-4980
1992
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Nucleation and growth during reactions in multilayer Al/Ni films: The early stage of Al3Ni formation
Journal of applied physics, 1991-02, Vol.69 (4), p.2211-2218
1991
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Intermetallic formation in copper/magnesium thin films—kinetics, nucleation and growth, and effect of interfacial oxygen
Journal of applied physics, 1994-11, Vol.76 (9), p.5161-5170
1994
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Crystallization of amorphous Co-Si alloys
Journal of applied physics, 1992-10, Vol.72 (8), p.3423-3430
1992
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Interdiffusion and phase formation in Cu(Sn) alloy films
Journal of applied physics, 1998-01, Vol.83 (1), p.90-99
1998
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The C49 to C54-TiSi2 transformation in self-aligned silicide applications
Journal of applied physics, 1993-04, Vol.73 (7), p.3566-3568
1993
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A kinetic study of the C49 to C54 TiSi2 conversion using electrical resistivity measurements on single narrow lines
Journal of applied physics, 1995-12, Vol.78 (12), p.7040-7044
1995
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Explosive silicidation in nickel/amorphous-silicon multilayer thin films
Journal of applied physics, 1990-03, Vol.67 (6), p.2894-2898
1990
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The microstructure of submicrometer wide planar-reactive ion etched versus trench-damascene AlCu lines
Journal of applied physics, 2000-11, Vol.88 (9), p.5093-5099
2000
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Nucleation and growth during reactions in multilayer Al/Ni films : the early stage of Al3 Ni formation
Journal of applied physics, 1991-02, Vol.69 (4), p.2211-2218
1991
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Crystallization of coevaporated and ion-irradiated amorphous CoSi2
Journal of applied physics, 1993-10, Vol.74 (8), p.4958-4962
1993
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Study of C49-TiSi2 and C54-TiSi2 formation on doped polycrystalline silicon using in situ resistance measurements during annealing
Journal of applied physics, 1994-12, Vol.76 (12), p.7874-7881
1994
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Investigation of titanium silicide formation in Ti+Si reactions using infrared spectroscopy and x-ray diffraction
Journal of applied physics, 1995-05, Vol.77 (10), p.5156-5159
1995
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Electromigration in Cu(Al) and Cu(Mn) damascene lines
Journal of applied physics, 2012-05, Vol.111 (9), p.093722-093722-6
2012
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