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Metal complexes for preparing ferroelectric thin films by metalorganic chemical vapor deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1992-09, Vol.31 (9B), p.2992-2994
1992
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Preparation of SrTiO 3 Films on 8-Inch Wafers by Chemical Vapor Deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1996-09, Vol.35 (9S), p.4875
1996
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Preparation of Pb(Zr, Ti)O3 thin films using all dipivaloylmethane source materials by metalorganic chemical vapor deposition
Japanese journal of applied physics, 1992-09, Vol.31 (9B), p.2995-2997
1992
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RuO2 bottom electrodes for ferroelectric (Pb, La)(Zr, Ti)O3 thin films by metalorganic chemical vapor deposition
Japanese journal of applied physics, 1995, Vol.34 (8A), p.4104-4107
1995
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Preparation of (111)-oriented β-Ta2O5 thin films by chemical vapor deposition using metalorganic precursors
Japanese journal of applied physics, 1992, Vol.31 (5A), p.L585-L587
1992
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Preparation of Pb(Zr, Ti)O 3 Thin Films Using All Dipivaloylmethane Source Materials by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1992-09, Vol.31 (9S), p.2995
1992
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Preparation of SrTiO3 films on 8-inch wafers by chemical vapor deposition
Japanese journal of applied physics, 1996, Vol.35 (9B), p.4875-4879
1996
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Preparation of SrTiO 3 Thin Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1994-08, Vol.33 (8R), p.4680
1994
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Synthesis of Ti(DPM) 2 (OCH 3 ) 2 and Evaluation of the TiO 2 Films Prepared by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1997-09, Vol.36 (9S), p.5820
1997
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RuO 2 Bottom Electrodes for Ferroelectric (Pb, La)(Zr, Ti)O 3 Thin Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1995-08, Vol.34 (8R), p.4104
1995
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Preparation of SrTiO3 thin films by metalorganic chemical vapor deposition
Japanese journal of applied physics, 1994, Vol.33 (8), p.4680-4683
1994
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Effect of Substrate Temperature on Electrical Characteristics of (Pb, La)(Zr, Ti)O 3 Ultrathin Films Deposited by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
Japanese Journal of Applied Physics, 1995-09, Vol.34 (9S), p.5086
1995
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Preparation of (111)-Oriented β-Ta 2 O 5 Thin Films by Chemical Vapor Deposition Using Metalorganic Precursors
Japanese Journal of Applied Physics, 1992-05, Vol.31 (5A), p.L585
1992
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