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Japanese Journal of Applied Physics, 1999-10, Vol.38 (10R), p.6073
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A Study of Loading Effect during Electron-Beam Exposure and Etching Process in Photomask Fabrication
1999
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Japanese Journal of Applied Physics, 1998-12, Vol.37 (12S), p.6984
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Jpn.J.Appl.Phys ,Part 1. Vol. 41, no. 1, pp. 66-69. 2002, 2002-01, Vol.41 (1), p.66-69
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Japanese Journal of Applied Physics, 1997-04, Vol.36 (4A), p.2281-2287
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Japanese Journal of Applied Physics, 2004-05, Vol.43 (5A), p.L624
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Jpn.J.Appl.Phys ,Part 1. Vol. 42, no. 4B, pp. 1962-1965. 2003, 2003, Vol.42 (4B), p.1962-1965
2003
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Japanese Journal of Applied Physics, 1999, Vol.38 (11R), p.6392-6393
1999
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Japanese Journal of Applied Physics, 2000, Vol.39 (4R), p.1890-1891
2000
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Japanese Journal of Applied Physics, 2004-10, Vol.43 (10), p.6880-6883
2004
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Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 2003, Vol.42 (4A), p.1670-1674
2003
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Japanese Journal of Applied Physics, 2002, Vol.41 (Part 1, No. 7A), p.4679-4685
2002
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Japanese Journal of Applied Physics, 2001, Vol.40 (7R), p.4450-4453
2001
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