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Effect of Dry Etching of TiO2 Thin Films Using Inductively Coupled Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.456 (1), p.63-73
2013
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Dry Etch Properties of ZTO Thin Films Using Inductively Coupled Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.454 (1), p.99-109
2013
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Surface Chemical Reaction on HfO2 Thin Film Etched by High Density Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.454 (1), p.91-98
2013
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The Dry Etching Properties of HfAlO3 Thin Films over Si and SiO2 Using Inductively Coupled Plasma Source
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.457 (1), p.137-145
2013
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The Dry Etching Properties of HfAlO^sub 3^ Thin Films over Si and SiO^sub 2^ Using Inductively Coupled Plasma Source
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.457 (1), p.137
2013
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Temperature Dependence on Dry Etching of Hafnium Oxide Using an Inductively Coupled Plasma
Ferroelectrics, 2010-01, Vol.406 (1), p.176-184
2010
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Effect of Dry Etching of TiO^sub 2^ Thin Films Using Inductively Coupled Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.456 (1), p.63
2013
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Surface Chemical Reaction on HfO^sub 2^ Thin Film Etched by High Density Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.454 (1), p.91
2013
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Surface Chemical Reaction on HfO sub(2) Thin Film Etched by High Density Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.454 (1), p.91-98
2013
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Dry Etching Characteristics of Bi^sub 0.5^(Na^sub 0.82^K^sub 0.18^)^sub 0.5^TiO^sub 3^ Thin Films in Inductively Coupled Plasma
Ferroelectrics, 2013-01, Vol.453 (1), p.44
2013
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