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Influence of oxidant source on the property of atomic layer deposited Al2O3 on hydrogen-terminated Si substrate
Thin solid films, 2005-04, Vol.476 (2), p.252-257
2005
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Effects of Ag doping on the crystallization properties of Sb-rich GeSb thin films
Thin solid films, 2011-06, Vol.519 (16), p.5323-5328
2011
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Crystallization behavior caused by N doping in Ge1Sb4Te7 for PCRAM application
Thin solid films, 2010-09, Vol.518 (22), p.6422-6428
2010
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Process engineering to reduce self-aligned contact failure by reducing process-driven thermal stress on tungsten-dual poly gate stacks in sub-60 nm DRAM devices
Microelectronic engineering, 2012-11, Vol.99, p.33-37
2012
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Effect of the oxygen vacancy gradient in titanium dioxide on the switching direction of bipolar resistive memory
Solid-state electronics, 2011-09, Vol.63 (1), p.115-118
2011
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Alteration for a diffusion barrier design concept in future high-density dynamic and ferroelectric random access memory devices
Progress in materials science, 2003, Vol.48 (4), p.275-371
2003
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Crystallization characteristics of nitrogen-doped Sb2Te3 films for PRAM application
Ceramics international, 2008-05, Vol.34 (4), p.1043-1046
2008
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The effect of precleaning treatments on the formation of Ti silicide
Applied surface science, 1998-01, Vol.125 (1), p.23-28
1998
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Selective silicon growth on nitride for silicon-plugging process in LPCVD
Journal of crystal growth, 2003-07, Vol.254 (3), p.329-335
2003
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Effects of wet oxidation on the electrical properties of sub-10 nm thick silicon nitride films
Thin solid films, 1991-12, Vol.205 (2), p.246-251
1991
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Vibration suppression of a cantilever beam using magnetically tuned-mass-damper
Journal of sound and vibration, 2012-12, Vol.331 (26), p.5669-5684
2012
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Effects of shape memory alloys on low velocity impact characteristics of composite plate
Composite structures, 2011-10, Vol.93 (11), p.2903-2909
2011
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Thermomechanical behaviors of Ni–Ti shape memory alloy ribbons and their numerical modeling
Mechanics of materials, 2010-08, Vol.42 (8), p.757-773
2010
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Poly(t-butyl-3α-(5-norbornene-2-carbonyloxy)-7α, 12α-dihydroxy-5β-cholan-24-oate- co-maleic anhydride) for a 193-nm photoresist
Polymer (Guilford), 1999-12, Vol.40 (26), p.7423-7426
1999
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