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Control of surface oxide formation in plasma-enhanced quasiatomic layer etching of tantalum nitride
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2020-03, Vol.38 (2)
2020
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Cyclic Cl2/H2 quasi-atomic layer etching approach for TiN and TaN patterning using organic masks
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2017-09, Vol.35 (5)
2017
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Rethinking surface reactions in nanoscale dry processes toward atomic precision and beyond: a physics and chemistry perspective
Japanese Journal of Applied Physics, 2019-06, Vol.58 (SE), p.SE0801
2019
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Utilizing photosensitive polymers to evaluate UV radiation exposures in different plasma chamber configurations
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2020-05, Vol.38 (3)
2020
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In-situ etch rate study of HfxLayOz in Cl-2/BCl3 plasmas using the quartz crystal microbalance
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2015-05, Vol.33 (3)
2015
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In-situ etch rate study of Hf{sub x}La{sub y}O{sub z} in Cl{sub 2}/BCl{sub 3} plasmas using the quartz crystal microbalance
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2015-05, Vol.33 (3)
2015
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In-situ etch rate study of HfxLayOz in Cl2/BCl3 plasmas using the quartz crystal microbalance
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2015-05, Vol.33 (3)
2015
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Rethinking surface reactions in nanoscale dry processes toward atomic precision and beyond: a physics and chemistry perspective
Japanese Journal of Applied Physics, 2019-05, Vol.58 (SE)
2019
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