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Impact of photomask shape uncertainties on computational lithography
2016 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2016, p.1-4
2016
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Computational techniques to incorporate shot count reduction into inverse lithography
2015 China Semiconductor Technology International Conference, 2015, p.1-3
2015
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Performance analysis of pixelated source-mask optimization for optical microlithography
2010 IEEE International Conference of Electron Devices and Solid-State Circuits (EDSSC), 2010, p.1-4
2010
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