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Patterning of self-assembled films using lithographic exposure tools
Japanese Journal of Applied Physics, 1993-12, Vol.32 (12B), p.5829-5839
1993
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Metal nanoparticle/polymer superlattice films: Fabrication and control of layer structure
Advanced materials (Weinheim), 1997-01, Vol.9 (1), p.61-65
1997
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Selective Copper Chemical Vapor Deposition Using Pd-Activated Organosilane Films
Langmuir, 1995-06, Vol.11 (6), p.1841-1845
1995
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Photochemical studies of (aminoethylaminomethyl) phenethyltrimethoxysilane self-assembled monolayer films
Thin solid films, 1996-09, Vol.284, p.568-572
1996
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Fabrication of 15 nm wide trenches in Si by vacuum scanning tunneling microscope lithography of an organosilane self-assembled film and reactive ion etching
Applied physics letters, 1996-01, Vol.68 (4), p.550-552
1996
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Selective Copper Cvd on Diamond Surfaces Using Self-Assembled Monolayers
MRS proceedings, 1994, Vol.337, Article 429
1994
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Doping of poly(acetylene) to the metallic state using thionyl chloride
Synthetic metals, 1988-08, Vol.25 (2), p.197-202
1988
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