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Sputtered nanocrystalline NiO thin films for very low ethanol detection
Vacuum, 2014-09, Vol.107, p.129-131
2014
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Patterning of titanium oxide nanostructures by electron-beam lithography combined with plasma etching
Journal of micromechanics and microengineering, 2015-07, Vol.25 (7), p.74006-7
2015
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Treatment of TiO2 surface for deposition of gold nanoparticles from colloidal suspension
Journal of micromechanics and microengineering, 2015-07, Vol.25 (7)
2015
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Structural characterization of sputtered indium oxide films deposited at room temperature
Thin solid films, 2010-06, Vol.518 (16), p.4508-4511
2010
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NiO-based nanostructured thin films with Pt surface modification for gas detection
Thin solid films, 2006-10, Vol.515 (2), p.658-661
2006
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Structural and morphological evaluation of layered WS2 thin films
Vacuum, 2020-09, Vol.179, p.109570, Article 109570
2020
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Effect of deposition temperature on the properties of amorphous silicon carbide thin films
Thin solid films, 2006-10, Vol.515 (2), p.651-653
2006
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Gallium arsenide suspended microheater for MEMS sensor arrays
Microsystem technologies, 2008-04, Vol.14 (4-5), p.629-635
2008
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The influence of process parameters and annealing temperature on the physical properties of sputtered NiO thin films
Vacuum, 2002-12, Vol.69 (1), p.237-242
2002
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Investigation of NiOx-based contacts on p-GaN
Journal of materials science. Materials in electronics, 2008, Vol.19 (8-9), p.855-862
2008
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Characterization of NiO thin films deposited by reactive sputtering
Vacuum, 1998-05, Vol.50 (1), p.41-44
1998
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Dry etching characteristics of TiO2 thin films using inductively coupled plasma for gas sensing
Vacuum, 2014-09, Vol.107, p.20-22
2014
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Effects of post-deposition surface treatment on the optical, structural and hydrogen sensing properties of TiO2 thin films
Thin solid films, 2009-12, Vol.518 (4), p.1103-1108
2009
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Study of Niobium Nitride Films Produced by DC Reactive Magnetron Sputtering
Physica status solidi. A, Applied research, 1997-05, Vol.161 (1), p.97-104
1997
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Thermal stability of NbN films deposited on GaAs substrates
Vacuum, 1998-05, Vol.50 (1), p.45-48
1998
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Preparation and characterization of NiO thin films for gas sensor applications
Vacuum, 2000-08, Vol.58 (2), p.300-307
2000
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Processes on the target, discharge and NbN film behaviour in reactive dc magnetron deposition
Vacuum, 1995-12, Vol.46 (12), p.1407-1412
1995
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Electrical characterization of 4H–SiC Schottky diodes with a RuO2 and a RuWOx Schottky contacts
Journal of materials science. Materials in electronics, 2008, Vol.19 (8-9), p.783-787
2008
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Deposition and properties of nickel oxide films produced by DC reactive magnetron sputtering
Vacuum, 1998-10, Vol.51 (2), p.157-160
1998
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Preparation of thin GaAs suspended membranes for gas micro-sensors using plasma etching
Vacuum, 2007-10, Vol.82 (2), p.236-239
2007
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  • BibTeX
Further studies of N doped a-SiC:H films deposited by PECVD and annealed by pulse electron beam
Thin solid films, 2004-07, Vol.459 (1), p.149-151
2004
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Influence of nitrogen concentration on conductivity of N-doped a-SiC:H films deposited by PECVD
Vacuum, 2002-09, Vol.67 (3), p.567-570
2002
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Reactive unbalanced magnetron sputtering of AlN thin films
Vacuum, 1998, Vol.50 (1-2), p.121-123
1998
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Properties of NbN Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering
Physica status solidi. A, Applied research, 1993-05, Vol.137 (1), p.K25-K28
1993
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Investigation of radiation damage in N doped a-SiC : H films annealed by pulsed electron beam
Vacuum, 2000-08, Vol.58 (2), p.428-433
2000
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