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Detection of SiH2 radicals in an a-Si:H deposition plasma by laser-induced fluorescence
Journal of physics. D, Applied physics, 1995-12, Vol.28 (12), p.2470-2472
1995
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Oxygen impurity effects on the formation of thin titanium silicide films by rapid thermal annealing
Journal of physics. D, Applied physics, 1990-08, Vol.23 (8), p.1076-1081
1990
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Characterization of polycrystalline and amorphous silicon films by angle-resolved light scattering
Journal of physics. D, Applied physics, 1993-02, Vol.26 (2), p.271-280
1993
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ThemaIon And Electron Beam-Assisted Deposition; Ion Plating
ThemaTechnology
Zeitschrift / SerieJournal Of Physics. D, Applied Physics
ThemaExact Sciences And Technology
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