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Advanced Atomic Layer Deposition Technologies for Micro-LEDs and VCSELs
Nanoscale research letters, 2021-11, Vol.16 (1), p.164-164, Article 164
2021
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Temperature-Dependent HfO2/Si Interface Structural Evolution and its Mechanism
Nanoscale research letters, 2019-03, Vol.14 (1), p.1-8, Article 83
2019
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Enhanced Si Passivation and PERC Solar Cell Efficiency by Atomic Layer Deposited Aluminum Oxide with Two-step Post Annealing
Nanoscale research letters, 2019-04, Vol.14 (1), p.139-10, Article 139
2019
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Defect Inspection Techniques in SiC
Nanoscale research letters, 2022-03, Vol.17 (1), p.30-30, Article 30
2022
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Correction: Advanced Atomic Layer Deposition Technologies for Micro-LEDs and VCSELs
Nanoscale research letters, 2022-02, Vol.17 (1), p.25-25, Article 25
2022
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Study on different isolation technology on the performance of blue micro-LEDs array applications
Discover nano, 2024-06, Vol.19 (1), p.102-9, Article 102
2024
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Surface Passivation of Silicon Using HfO2 Thin Films Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition System
Nanoscale research letters, 2017-05, Vol.12 (1), p.1-324, Article 324
2017
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β-Ga2O3 MOSFETs electrical characteristic study of various etching depths grown on sapphire substrate by MOCVD
Discover nano, 2023-06, Vol.18 (1), p.92, Article 92
2023
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Tuning the electronic properties of boron nitride nanotube by mechanical uni-axial deformation: a DFT study
Nanoscale research letters, 2011-02, Vol.6 (1), p.160-160, Article 160
2011
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High breakdown voltage in AlGaN/GaN HEMTs using AlGaN/GaN/AlGaN quantum-well electron-blocking layers
Nanoscale research letters, 2014-08, Vol.9 (1), p.433-433, Article 433
2014
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Investigation on the passivated Si/Al2O3 interface fabricated by non-vacuum spatial atomic layer deposition system
Nanoscale research letters, 2015-02, Vol.10 (1), p.93-93, Article 93
2015
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Temperature-Dependent HfO 2 /Si Interface Structural Evolution and its Mechanism
Nanoscale research letters, 2019-03, Vol.14 (1), p.83
2019
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Investigation on the passivated Si/Al^sub 2^O3 interface fabricated by non-vacuum spatial atomic layer deposition system
Nanoscale research letters, 2015-02, Vol.10 (1), p.1
2015
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Surface Passivation of Silicon Using HfO 2 Thin Films Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition System
Nanoscale research letters, 2017-12, Vol.12 (1), p.324
2017
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