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Effect of Oxygen Source on the Various Properties of SnO2 Thin Films Deposited by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
Coatings (Basel), 2020-07, Vol.10 (7), p.692
2020
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Ternary Ga–Sn–O and quaternary In–Ga–Sn–O channel based thin film transistors fabricated by plasma-enhanced atomic layer deposition
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2023-12, Vol.41 (6)
2023
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Simultaneous etching of underlying metal oxide and sulfide thin films during Cu2S atomic layer deposition
Applied surface science, 2020-09, Vol.524, p.146452, Article 146452
2020
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High-performance Atomic-Layer-Deposited SnO thin film transistors fabricated by intense pulsed light annealing
Applied surface science, 2023-01, Vol.609, p.155281, Article 155281
2023
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Strategic allocation of two-dimensional van der Waals semiconductor as an oxygen reservoir for boosting resistive switching reliability
Applied surface science, 2022-03, Vol.577, p.151936, Article 151936
2022
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Thermal atomic layer deposition of In2O3 thin films using dimethyl(N-ethoxy-2,2-dimethylcarboxylicpropanamide)indium and H2O
Applied surface science, 2017-10, Vol.419, p.758-763
2017
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Atomic layer deposition of indium oxide thin film from a liquid indium complex containing 1-dimethylamino-2-methyl-2-propoxy ligands
Applied surface science, 2016-10, Vol.383, p.1-8
2016
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Investigation of phases and chemical states of tin titanate films grown by atomic layer deposition
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2020-01, Vol.38 (1)
2020
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Horizontally aligned ALD-SnO films grown on SiO2-passivated high-k HfO2 dielectrics for high-mobility and low-power P-channel thin-film transistor
Surfaces and interfaces, 2024-01, Vol.44, p.103726, Article 103726
2024
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Initial reactions of ultrathin HfO2 films by in situ atomic layer deposition: An in situ synchrotron photoemission spectroscopy study
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2018-03, Vol.36 (2)
2018
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Growth of tantalum nitride film as a Cu diffusion barrier by plasma-enhanced atomic layer deposition from bis((2-(dimethylamino)ethyl)(methyl)amido)methyl(tert-butylimido)tantalum complex
Applied surface science, 2016-01, Vol.362, p.176-181
2016
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SnO2 thin films grown by atomic layer deposition using a novel Sn precursor
Applied surface science, 2014-11, Vol.320, p.188-194
2014
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Growth of amorphous zinc tin oxide films using plasma-enhanced atomic layer deposition from bis(1-dimethylamino-2-methyl-2propoxy)tin, diethylzinc, and oxygen plasma
Applied surface science, 2015-12, Vol.357, p.672-677
2015
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Atomic layer deposition of Al2O3 thin films using dimethylaluminum isopropoxide and water
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2003-07, Vol.21 (4), p.1366-1370
2003
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SnO-decorated TiO2 nanoparticle with enhanced photocatalytic performance for methylene blue degradation
Applied surface science, 2019-06, Vol.480, p.1089-1092
2019
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Trimethylsilylcyclopentadienyl tris(dimethylamino)zirconium as a single-source metal precursor for the atomic layer deposition of ZrxSi1-xO4
Thin solid films, 2014-08, Vol.564, p.140-145
2014
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