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Controlled orientation and microstructure of p-type SnO thin film transistors with high-k dielectric for improved performance
Applied physics letters, 2023-08, Vol.123 (7)
2023
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Impedance spectroscopy characterization of resistance switching NiO thin films prepared through atomic layer deposition
Applied physics letters, 2006-11, Vol.89 (22), p.222105-222105-3
2006
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Ternary Ga–Sn–O and quaternary In–Ga–Sn–O channel based thin film transistors fabricated by plasma-enhanced atomic layer deposition
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2023-12, Vol.41 (6)
2023
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Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Ni
Japanese Journal of Applied Physics, 2010-05, Vol.49 (5), p.05FA11-05FA11-4
2010
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Atomic layer deposition of nickel oxide films using Ni ( dmamp ) 2 and water
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2005-07, Vol.23 (4), p.1238-1243
2005
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Investigation of phases and chemical states of tin titanate films grown by atomic layer deposition
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2020-01, Vol.38 (1)
2020
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Initial reactions of ultrathin HfO2 films by in situ atomic layer deposition: An in situ synchrotron photoemission spectroscopy study
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2018-03, Vol.36 (2)
2018
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Atomic layer deposition of Al2O3 thin films using dimethylaluminum isopropoxide and water
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2003-07, Vol.21 (4), p.1366-1370
2003
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Composition and Electrical Properties of Metallic Ru Thin Films Deposited Using Ru(C 6 H 6 )(C 6 H 8 ) Precursor
Japanese Journal of Applied Physics, 2002-11, Vol.41 (Part 1, No. 11B), p.6852-6856
2002
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Metal organic chemical vapor deposition of ZrO2 thin films using the single precursor zirconium 3-methyl-3-pentoxide, Zr(mp)4
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2006-07, Vol.24 (4), p.1208-1212
2006
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Monodispersed ZnO nanoparticles from a single molecular precursorElectronic supplementary information (ESI) available: characterization data of the molecular precursor and thermolyzed ZnO nanoparticles and gaseous by-products. See http://www.rsc.org/suppdata/cc/b3/b306163a
Chemical communications (Cambridge, England), 2003 (16), p.2068
2003
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Metal organic chemical vapor deposition of ZrO 2 thin films using the single precursor zirconium 3-methyl-3-pentoxide, Zr ( mp ) 4
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2006-07, Vol.24 (4), p.1208-1212
2006
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Atomic layer deposition of Al 2 O 3 thin films using dimethylaluminum isopropoxide and water
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 2003, Vol.21 (4), p.1366-1370
2003
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