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An in-process strategy for defect-free CPL masks
Solid state technology, 2005-12, Vol.48 (12), p.42
2005
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Exploring the dark side
Solid state technology, 2013-03, Vol.56 (2), p.21-22
2013
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Diamond films no longer in the rough with AKHAN Technologies launch
Solid state technology, 2012-01, Vol.55 (1), p.7-7
2012
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Surface prep for 2011 and beyond
Solid state technology, 2011-04, Vol.54 (4), p.19-20
2011
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Optimization of edge die yield through defectivity reduction
Solid state technology, 2009-10, Vol.52 (10), p.10
2009
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DUV inspection and defect origin analysis for 22nm spacer self-aligned double-patterning
Solid state technology, 2010-07, Vol.53 (7), p.16-18
2010
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Identifying yield-impacting polishing-induced defects on polished silicon substrates
Solid state technology, 2009-05, Vol.52 (5), p.20
2009
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High-k goes to production, but arguments continue
Solid state technology, 2008-07, Vol.51 (7), p.24
2008
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Effect of pump-induced particle agglomeration on CMP
Solid state technology, 2008-08, Vol.51 (8), p.40
2008
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Removing sub-50nm particles during blank substrate cleaning
Solid state technology, 2006-04, Vol.49 (4), p.47-49
2006
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Optics lives-but for how long?
Solid state technology, 2007-05, p.24
2007
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Determining printable defects with MEEF-based mask inspection
Solid state technology, 2005-09, Vol.48 (9), p.49
2005
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Advanced prototyping using step-and-flash imprint
Solid state technology, 2005-12, Vol.48 (12), p.60
2005
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  • BibTeX
Evolution or revolution: the path for metrology beyond the 22nm node
Solid state technology, 2012-03, Vol.55 (2), p.15-19
2012
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  • BibTeX
Detection and elimination of a yield-critical non-visual residue defect
Solid state technology, 2013-06, Vol.56 (4), p.22-24
2013
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  • BibTeX
Defect removal using dry cryogenic aerosols
Solid state technology, 2012-04, Vol.55 (3), p.12-14
2012
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  • BibTeX
Impact of charge during gate oxide patterning on yield
Solid state technology, 2012-07, Vol.55 (6), p.18-21
2012
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  • BibTeX
Efficiency in sealing: A BKM case study
Solid state technology, 2012-07, Vol.55 (6), p.36-40
2012
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  • BibTeX
Ion beam optimization to reduce EUV mask blank defects
Solid state technology, 2012-05, Vol.55 (4), p.18-20
2012
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  • BibTeX
Yield challenges and the 450mm learning curve
Solid state technology, 2012-03, Vol.55 (2), p.13-13
2012
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  • BibTeX
Improved SRAM detection through scattered light collection
Solid state technology, 2011-10, Vol.54 (9), p.18-24
2011
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SPIE 2011: Where are we now with EUV?
Solid state technology, 2011-04, Vol.54 (4), p.7-9
2011
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SEMATECH reports EUV lithography mask defect, cleaning breakthroughs
Solid state technology, 2012-10, Vol.55 (8), p.6-7
2012
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Lithography perspective for the 22nm half-pitch
Solid state technology, 2010-02, Vol.53 (2), p.16-18
2010
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  • BibTeX
Holistic substrate inspection for defects at the 32nm node and beyond
Solid state technology, 2010-07, Vol.53 (7), p.28-29
2010
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