Handbook of Semiconductor Technology, 2000, p.291-339
2000
Details
- Autor(en) / Beteiligte
- Titel
- Etching Processes in Semiconductor Manufacturing
- Ist Teil von
- Handbook of Semiconductor Technology, 2000, p.291-339
- Ort / Verlag
- Weinheim, Germany: Wiley‐VCH Verlag GmbH
- Erscheinungsjahr
- 2000
- Link zum Volltext
- Quelle
- Wiley Online Library All Obooks
- Beschreibungen/Notizen
- The chapter contains sections titled: Introduction Equipment: Description of Hardware Endpoint, Diagnostic and Control Techniques Process Discussion: General Considerations Etch Processing for 4Mb DRAM Summary References
- Sprache
- Englisch
- Identifikatoren
- ISBN: 3527298355, 9783527298358DOI: 10.1002/9783527621828.ch6Titel-ID: cdi_wiley_ebooks_10_1002_9783527621828_ch6_ch6
- Format
- –
- Schlagworte
- aluminum, boron phosphorus, laser interferometry, polycrystalline silicon