Hong wai yu hao mi bo xue bao, 2008, Vol.27 (3), p.165-168
2008
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Details
- Autor(en) / Beteiligte
- Titel
- 单晶硅材料电致双折射的研究
- Ist Teil von
- Hong wai yu hao mi bo xue bao, 2008, Vol.27 (3), p.165-168
- Ort / Verlag
- 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林大学电子科学与工程学院,吉林,长春,130012
- Erscheinungsjahr
- 2008
- Quelle
- EZB Electronic Journals Library
- Beschreibungen/Notizen
- 首次测量了硅材料在1.3μm波长处,基于克尔效应和弗朗兹-凯尔迪什效应的电致双折射,进而计算出三阶非线性极化率张量χ^（3）的分量χ^（3）xyzy.观测到弗朗兹-凯尔迪什效应引起的折射率变化与入射光的偏振态有关.在实验中,测得了由克尔效应引起的折射率之差为Δn=5.49×10^-16E^20,而弗朗兹-凯尔迪什效应引起的折射率之差为Δn′=2.42×10^-16E2.5o.
- Sprache
- Chinesisch
- Identifikatoren
- ISSN: 1001-9014DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2008.03.002Titel-ID: cdi_wanfang_journals_hwyhmb200803002
- Format
- –
- Schlagworte
- 三阶非线性极化率张量, 偏振态, 克尔效应, 弗朗兹-凯尔迪什效应, 电致双折射