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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
High-Yield Growth and Characterization of < 100 > InP p-n Diode Nanowires
Ist Teil von
  • Nano letters, 2016, Vol.16 (5), p.3071
Erscheinungsjahr
2016
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • Semiconductor nanowires are nanoscale structures holding promise in many fields such as optoelectronics, quantum computing, and thermoelectrics. Nanowires are usually grown vertically on (111)-oriented substrates, while (100) is the standard in semiconductor technology. The ability to grow and to control impurity doping of (100) nanowires is crucial for integration. Here, we discuss doping of single-crystalline < 100 > nanowires, and the structural and optoelectronic properties of p-n junctions based on < 100 > InP nanowires. We describe a novel approach to achieve low resistance electrical contacts to nanowires via a gradual interface based on p-doped InAsP. As a first demonstration in optoelectronic devices, we realize a single nanowire light emitting diode in a < 100 >-oriented InP nanowire p-n junction. To obtain high vertical yield, which is necessary for future applications, we investigate the effect of the introduction of dopants on the nanowire growth.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1530-6992, 1530-6984
DOI: 10.1021/acs.nanolett.6b00203
Titel-ID: cdi_swepub_primary_oai_DiVA_org_kth_188073

Weiterführende Literatur

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