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Applied physics. A, Materials science & processing, 2011-08, Vol.104 (2), p.573-578
2011

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Sub-10-nm multifacet domelike Ge quantum dots grown on clean Si (001) (2×1) surface
Ist Teil von
  • Applied physics. A, Materials science & processing, 2011-08, Vol.104 (2), p.573-578
Ort / Verlag
Berlin/Heidelberg: Springer-Verlag
Erscheinungsjahr
2011
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • Sub-10-nm multifacet domelike Ge quantum dots (QDs) ensembles with uniform size have been achieved on a clean Si (001) (2×1) reconstructed surface at a substrate temperature of 450°C, total Ge coverage of 7 ML, Ge deposition rate of ∼0.0115 ML/s and no post-annealing. Their areal density and diameter are 5.2×10 11 cm −2 and 7.2±2.3 nm, respectively, which is explained by a pit-mediated mass transferring nucleation mechanism suggested by us. According to the phase diagram analysis, their domelike morphology can be attributed to a relatively high growth temperature. Their high density and small size result in a strong non-phonon peak with a large blue shift of 0.19 eV in the low-temperature photoluminescence spectrum.

Weiterführende Literatur

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