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Mask technologies for soft-x-ray projection lithography at 13 nm
Applied Optics, 1993-12, Vol.32 (34), p.7007
Tennant, D. M.
Fetter, L. A.
Harriott, L. R.
MacDowell, A. A.
Mulgrew, P. P.
Pastalan, J. Z.
Waskiewicz, W. K.
Windt, D. L.
Wood, O. R.
1993
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Details
Autor(en) / Beteiligte
Tennant, D. M.
Fetter, L. A.
Harriott, L. R.
MacDowell, A. A.
Mulgrew, P. P.
Pastalan, J. Z.
Waskiewicz, W. K.
Windt, D. L.
Wood, O. R.
Titel
Mask technologies for soft-x-ray projection lithography at 13 nm
Ist Teil von
Applied Optics, 1993-12, Vol.32 (34), p.7007
Erscheinungsjahr
1993
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6935
eISSN: 1539-4522
DOI: 10.1364/AO.32.007007
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1364_AO_32_007007
Format
–
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