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Optical Lithography with Printed Metal Mask and a Simple Superhydrophobic Surface
Ist Teil von
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany), 2008-02, Vol.4 (2), p.182-185
Ort / Verlag
Weinheim: WILEY-VCH Verlag
Erscheinungsjahr
2008
Link zum Volltext
Quelle
Wiley Online Library - AutoHoldings Journals
Beschreibungen/Notizen
A nanolithographic optical patterning technique is presented. A metal pattern on a mold is transferred onto a photoresist on a substrate, then the resist with the printed metal mask is flood illuminated. The light passes through only the resist lenses that are formed in the transfer process. Focusing by these lenses results in a significant reduction in the feature size.