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Improvements in a-plane GaN crystal quality by AlN/AlGaN superlattices layers
Ist Teil von
Journal of crystal growth, 2009-07, Vol.311 (14), p.3622-3625
Ort / Verlag
Amsterdam: Elsevier B.V
Erscheinungsjahr
2009
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
Non-polar (1
1
2¯
0)
a-plane GaN films have been grown by low-pressure metal-organic vapor deposition on
r-plane (1
1¯
0
2) sapphire substrate. We report on an approach of using AlN/AlGaN superlattices (SLs) for crystal quality improvement of
a-plane GaN on
r-plane sapphire. Using X-ray diffraction and atomic force microscopy measurements, we show that the insertion of AlN/AlGaN SLs improves crystal quality, reduces surface roughness effectively and eliminates triangular pits on the surface completely.