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Interferometric temperature mapping during ESD stress and failure analysis of smart power technology ESD protection devices
Ist Teil von
Journal of electrostatics, 2000-08, Vol.49 (3), p.195-213
Ort / Verlag
Elsevier B.V
Erscheinungsjahr
2000
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
Breakdown homogeneity and triggering of bipolar transistor action are studied in Smart Power technology ESD protection devices via measurements of temperature distribution and thermal dynamics by a laser interferometric technique. Temperature changes in the devices biased in the avalanche multiplication or snapback region are monitored by ns-time scale measurements of the optical phase shift. The distribution of the temperature-induced phase shift is correlated with the position of ESD damage obtained by backside IR microscopy.