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It has been reported that mobile hydrogenous ions can be formed in the oxide after exposure to temperatures of 1100-1300 degree C for 30min. It is investigated whether these ions can be created in a standard MOSFET fabricated by a submicron CMOS process, without using such a high thermal budget. The potential use of a MOSFET as a non-volatile memory device is explored and problems are highlighted.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0013-5194
DOI: 10.1049/el:20010475
Titel-ID: cdi_proquest_miscellaneous_26752343
Format
–
Weiterführende Literatur
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