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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Flux-dependent scaling behavior in Cu(100) submonolayer homoepitaxy
Ist Teil von
  • Surface science, 1997-11, Vol.391 (1), p.L1205-L1211
Ort / Verlag
Lausanne: Elsevier B.V
Erscheinungsjahr
1997
Link zum Volltext
Quelle
Elsevier ScienceDirect Journals
Beschreibungen/Notizen
  • The average separation of two-dimensional islands in Cu(100) submonolayer homoepitaxy as a function of the deposition flux at 213 K has been studied using spot profile analysis low-energy electron diffraction. As the flux decreases, a large change in the apparent critical island size, from one to a value between seven and 12 atoms, is obtained even though the temperature is held constant. This is shown to be consistent with a recently proposed dimer shearing mechanism which has a significant influence on the stability of islands with eight atoms or less.

Weiterführende Literatur

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