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Ultramicroscopy, 1981, Vol.6 (3), p.237-250
1981
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
A contribution to the theory of the ebic contrast of lattice defects in semiconductors
Ist Teil von
  • Ultramicroscopy, 1981, Vol.6 (3), p.237-250
Ort / Verlag
Elsevier B.V
Erscheinungsjahr
1981
Quelle
Elsevier Journal Backfiles on ScienceDirect (DFG Nationallizenzen)
Beschreibungen/Notizen
  • Using the model of a bounded defect region characterized by a constant lifetime of the minority carriers which is lower than that outside the defect the contrast is obtained as an infinite series (perturbation expansion), the sum of which can be estimated in the case of a dislocation of infinite length if the dimension of the dislocation region perpendicular to the dislocation line is assumed to be much less than the diffusion length of the minority carriers of the defect-free semiconductor. For a point-like excitation on the surface of a sample with a junction parallel to the surface the dislocation contrast is computed as a function of the position of the dislocation for different values of both the “strength” of the dislocation and the surface recombination velocity.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0304-3991
eISSN: 1879-2723
DOI: 10.1016/S0304-3991(81)80159-3
Titel-ID: cdi_proquest_miscellaneous_23610585
Format

Weiterführende Literatur

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