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Effect of oxygen on chromium-structural defects interaction in ion-implanted gallium arsenide
Ist Teil von
Journal of applied physics, 1982-09, Vol.53 (9), p.6413-6417
Erscheinungsjahr
1982
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
The redistribution of chromium in gallium arsenide implanted with either gallium and arsenic or gallium, arsenic, and oxygen and subsequently furnace annealed was studied by secondary ion mass spectrometry. The depth distribution of the residual damage was obtained by cross-sectional transmission electron microscopy. At annealing temperatures of ⩽600 °C, there was a one to one depth correlation between the positions of the damage layers and peaks in the atomic profile of chromium. However, at annealing temperatures of ⩾800 °C such correlations were complicated by oxidation effects.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0021-8979
eISSN: 1089-7550
DOI: 10.1063/1.331514
Titel-ID: cdi_proquest_miscellaneous_23395856
Format
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Weiterführende Literatur
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