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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Sensing Sub-10 nm Wide Perturbations in Background Nanopatterns Using Optical Pseudoelectrodynamics Microscopy (OPEM)
Ist Teil von
  • Nano letters, 2019-08, Vol.19 (8), p.5347-5355
Ort / Verlag
United States: American Chemical Society
Erscheinungsjahr
2019
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • Using light as a probe to investigate perturbations with deep subwavelength dimensions in large-scale wafers is challenging because of the diffraction limit and the weak Rayleigh scattering. In this Letter, we report on a nondestructive noninterference far-field imaging method, which is built upon electrodynamic principles (mechanical work and force) of the light-matter interaction, rather than the intrinsic properties of light. We demonstrate sensing of nanoscale perturbations with sub-10 nm features in semiconductor nanopatterns. This framework is implemented using a visible-light bright-field microscope with a broadband source and a through-focus scanning apparatus. This work creates a new paradigm for exploring light-matter interactions at the nanoscale using microscopy that can potentially be extended to many other problems, for example, bioimaging, material analysis, and nanometrology.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1530-6984
eISSN: 1530-6992
DOI: 10.1021/acs.nanolett.9b01806
Titel-ID: cdi_proquest_miscellaneous_2254503591
Format

Weiterführende Literatur

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