Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Ergebnis 7 von 210

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Mobility enhancement effect in heavily doped junctionless nanowire silicon-on-insulator metal-oxide-semiconductor field-effect transistors
Ist Teil von
  • Applied physics letters, 2012-11, Vol.101 (21), p.213502
Erscheinungsjahr
2012
Link zum Volltext
Quelle
AIP Journals Complete
Beschreibungen/Notizen
  • The effective electron mobility in long-channel silicon-on-insulator junctionless multigate metal-oxide-semiconductor transistors is experimentally studied. It is found that the mobility in heavily doped narrow nanowire (NW) devices at low to moderately high carrier densities significantly exceeds that in wide (planar) devices with the same silicon thickness and doping and, in a certain range of carrier densities, it exceeds the mobility in bulk silicon with the same doping concentration. This effect increases when decreasing the NW width. The possible origins of this effect are discussed. These results are extremely encouraging for the development of junctionless NW transistors.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
DOI: 10.1063/1.4767353
Titel-ID: cdi_proquest_miscellaneous_1770341378

Weiterführende Literatur

Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von bX