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Chinese physics letters, 2013, Vol.30 (6), p.068101-1-068101-3
2013
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
InAs/InGaAsP/InP Quantum Dot Lasers Grown by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
Ist Teil von
  • Chinese physics letters, 2013, Vol.30 (6), p.068101-1-068101-3
Erscheinungsjahr
2013
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • We demonstrate InAs/InGaAsP/InP quantum dot (QD) lasers grown by metalorganic chemical vapor deposition. The active region of the lasers consists of five layers of InAs QDs. Ridge waveguide lasers with 6 cm width have been fabricated by standard optical lithography and wet etching. Under continuous wave operation at room temperature, a low threshold current density of 447 A/cm super(2)per QD layer is achieved for a QD laser with a cavity length of 2 mm. Moreover, the lasing redshifts from 1.61 mu m to 1.645 mu m as the cavity length increases from 1.5mm to 4 mm. A high characteristic temperature of up to 88K is obtained in the temperature range between 10[degrees]C and 40[degrees]C
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0256-307X
eISSN: 1741-3540
DOI: 10.1088/0256-307X/30/6/068101
Titel-ID: cdi_proquest_miscellaneous_1753498342

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