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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
29.1: Invited Paper: Degradation Mechanism of High Mobility Oxide Thin Film Transistors for Next Generation Display
Ist Teil von
  • SID International Symposium Digest of technical papers, 2021-08, Vol.52 (S2), p.395-398
Ort / Verlag
Campbell: Wiley Subscription Services, Inc
Erscheinungsjahr
2021
Link zum Volltext
Quelle
Wiley Online Library Journals
Beschreibungen/Notizen
  • AC stress was applied to the IWZO thin film transistor with high mobility, and its deterioration phenomenon was observed. As a result, a rare phenomenon in which the ON current deteriorates was observed. A deterioration model was proposed by reference experiments using DC stress, emission analysis using an emission microscope, and electric field distribution analysis using a device simulator. It was concluded that the deterioration is due to hot carriers that occur when the gate electric field changes from ON to OFF.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0097-966X
eISSN: 2168-0159
DOI: 10.1002/sdtp.15134
Titel-ID: cdi_proquest_journals_2564435572

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