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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
The Photopolymer Science and Technology Award
Ist Teil von
  • Journal of Photopolymer Science and Technology, 2014/07/08, Vol.27(1), pp.7-10
Ort / Verlag
Hiratsuka: The Society of Photopolymer Science and Technology(SPST)
Erscheinungsjahr
2014
Quelle
Free E-Journal (出版社公開部分のみ)
Beschreibungen/Notizen
  • The Photopolymer Science and Technology Award No. 142100, the Best Paper Award 2014, was presented to Kato, Hirokazu, Seino, Yuriko, Yonemitsu, Hiroki, Sato, Hironobu, Kanno, Masahiro, Kobayashi, Katsutoshi, Kawanishi, Ayako, Imamura, Tsubasa, Omura, Mitsuhiro, Nakamura, Naofumi, Azuma, Tsukasa (Toshiba Corporation) for their outstanding contribution published in the Journal of Photopolymer Science and Technology, 26, (2013) 21-26, entitled “Electrical Via Chain Yield for DSA Contact Hole Shrink Process”.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0914-9244
eISSN: 1349-6336
DOI: 10.2494/photopolymer.27.7
Titel-ID: cdi_proquest_journals_1551904747
Format
Schlagworte
193 nm lithography, DSA, PST Award

Weiterführende Literatur

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