Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Zur Ergebnisliste
Ergebnis 8 von 19
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
New diagnostic aspects of high rate a-Si:H deposition in a VHF plasma
Journal of non-crystalline solids, 1996, Vol.198200, p.1038-1041
1996

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
New diagnostic aspects of high rate a-Si:H deposition in a VHF plasma
Ist Teil von
  • Journal of non-crystalline solids, 1996, Vol.198200, p.1038-1041
Ort / Verlag
Amsterdam: Elsevier
Erscheinungsjahr
1996
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0022-3093
eISSN: 1873-4812
Titel-ID: cdi_pascalfrancis_primary_3144771
Format
–
Schlagworte
Cross-disciplinary physics: materials science, rheology, Exact sciences and technology, Ion and electron beam-assisted deposition, ion plating, Materials science, Methods of deposition of films and coatings, film growth and epitaxy, Physics, Physics of gases, plasmas and electric discharges, Physics of plasmas and electric discharges, Plasma applications

Weiterführende Literatur

Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von bX