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Reactive unbalanced magnetron sputtering of AlN thin films
Vacuum, 1998, Vol.50 (1-2), p.121-123
1998
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Reactive unbalanced magnetron sputtering of AlN thin films
Ist Teil von
  • Vacuum, 1998, Vol.50 (1-2), p.121-123
Ort / Verlag
Oxford: Elsevier
Erscheinungsjahr
1998
Quelle
Elsevier Journal Backfiles on ScienceDirect (DFG Nationallizenzen)
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0042-207X
eISSN: 1879-2715
DOI: 10.1016/S0042-207X(98)00100-6
Titel-ID: cdi_pascalfrancis_primary_2385335
Format
–
Schlagworte
Cross-disciplinary physics: materials science, rheology, Deposition by sputtering, Exact sciences and technology, Materials science, Methods of deposition of films and coatings, film growth and epitaxy, Physics

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