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Tailored ion energy distributions at an rf-biased plasma electrode
Plasma sources science & technology, 2010-12, Vol.19 (6), p.065014
2010
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Tailored ion energy distributions at an rf-biased plasma electrode
Ist Teil von
  • Plasma sources science & technology, 2010-12, Vol.19 (6), p.065014
Ort / Verlag
Bristol: IOP Publishing
Erscheinungsjahr
2010
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0963-0252
eISSN: 1361-6595
DOI: 10.1088/0963-0252/19/6/065014
Titel-ID: cdi_pascalfrancis_primary_23629965
Format
–
Schlagworte
Etching and cleaning, Exact sciences and technology, Physics, Physics of gases, plasmas and electric discharges, Physics of plasmas and electric discharges, Plasma applications

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