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Downstream ion and radical densities in an Ar–NH3 plasma generated by the expanding thermal plasma technique
Plasma sources science & technology, 2006-08, Vol.15 (3), p.546-555
van den Oever, P J
van Hemmen, J L
van Helden, J H
Schram, D C
Engeln, R
van de Sanden, M C M
Kessels, W M M
2006
Volltextzugriff (PDF)
Details
Autor(en) / Beteiligte
van den Oever, P J
van Hemmen, J L
van Helden, J H
Schram, D C
Engeln, R
van de Sanden, M C M
Kessels, W M M
Titel
Downstream ion and radical densities in an Ar–NH3 plasma generated by the expanding thermal plasma technique
Ist Teil von
Plasma sources science & technology, 2006-08, Vol.15 (3), p.546-555
Ort / Verlag
Bristol: IOP Publishing
Erscheinungsjahr
2006
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0963-0252
eISSN: 1361-6595
DOI: 10.1088/0963-0252/15/3/034
Titel-ID: cdi_pascalfrancis_primary_18036693
Format
–
Schlagworte
Electric and magnetic measurements
,
Exact sciences and technology
,
Ionization of plasmas
,
Optical (ultraviolet, visible, infrared) measurements
,
Physics
,
Physics of gases, plasmas and electric discharges
,
Physics of plasmas and electric discharges
,
Plasma diagnostic techniques and instrumentation
,
Plasma production and heating
,
Plasma properties
,
Plasma sources
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