Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Ergebnis 18 von 665
Applied physics letters, 1976-02, Vol.28 (4), p.237-239
1976
Volltextzugriff (PDF)

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Oxygen distribution in sputtered Nb-Ge films
Ist Teil von
  • Applied physics letters, 1976-02, Vol.28 (4), p.237-239
Ort / Verlag
United States: American Institute of Physics (AIP)
Erscheinungsjahr
1976
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • A quantiative determination of the distribution of oxygen in a high-Tc (22 K) Nb-Ge film has been made using a nuclear backscattering method. The Nb/Ge ratios as a function of depth have also been determined. An apparent correlation between oxygen concentration and Nb/Ge ratio is observed.

Weiterführende Literatur

Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von bX