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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
III-nitride photonic crystal emitters by selective photoelectrochemical etching of heterogeneous quantum well structures
Ist Teil von
  • Optical materials express, 2018-11, Vol.8 (11), p.3543
Ort / Verlag
Washington: Optical Society of America
Erscheinungsjahr
2018
Quelle
Electronic Journals Library
Beschreibungen/Notizen
  • We demonstrate a top-down fabrication strategy for creating a III-nitride hole array photonic crystal (PhC) with embedded quantum wells (QWs). Our photoelectrochemical (PEC) etching technique is highly bandgap selective, permitting the removal of QWs with well-defined indium (In) concentration. Room-temperature micro-photoluminescence (μ-PL) measurements confirm the removal of one multiple quantum well (MQW) while preserving a QW of differing In concentration. Moreover, PhC cavity resonances, wholly unobservable before, are present following PEC etching. Our results indicate an interesting route for creating III-nitride membranes with tailorable emission wavelengths. Our top-down fabrication approach offers exciting opportunities for III-nitride based light emitters.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 2159-3930
eISSN: 2159-3930
DOI: 10.1364/OME.8.003543
Titel-ID: cdi_osti_scitechconnect_1483968

Weiterführende Literatur

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