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Electromigration noise measurements using a novel AC/DC wafer-level noise measurement system
IEEE transactions on electron devices, 1997-01, Vol.44 (1), p.180-184
1997
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Electromigration noise measurements using a novel AC/DC wafer-level noise measurement system
Ist Teil von
  • IEEE transactions on electron devices, 1997-01, Vol.44 (1), p.180-184
Ort / Verlag
IEEE
Erscheinungsjahr
1997
Quelle
IEEE Electronic Library (IEL)
Beschreibungen/Notizen
  • This paper presents a novel AC/DC noise measurement system. This system simultaneously uses a high DC current to generate 1/f/sup 2/ noise (electromigration noise) in thin films and a low AC current to detect that noise. This new system allows us to separate the noise components of metal thin films and is more stable and sensitive than its predecessors.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0018-9383
eISSN: 1557-9646
DOI: 10.1109/16.554808
Titel-ID: cdi_ieee_primary_554808
Format
–
Schlagworte
Background noise, Battery charge measurement, Circuit noise, Current measurement, Electrical resistance measurement, Electromigration, Noise generators, Noise measurement, Power measurement, Semiconductor device noise

Weiterführende Literatur

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