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2009 Conference on Lasers and Electro-Optics and 2009 Conference on Quantum electronics and Laser Science Conference, 2009, p.1-2
Ort / Verlag
IEEE
Erscheinungsjahr
2009
Quelle
IEEE Electronic Library (IEL)
Beschreibungen/Notizen
We report on a reflection microscope that operates at 13.2-nm wavelength with a spatial resolution of 55 plusmn 3 nm. The microscope uses a table-top EUV laser to acquire images of photolithography masks in 20 seconds.