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Light Manipulation with Si Mesoscale Structures for Applications in IR Photodetector and Photoemitter Arrays
Ist Teil von
2023 IEEE Research and Applications of Photonics in Defense Conference (RAPID), 2023, p.1-2
Ort / Verlag
IEEE
Erscheinungsjahr
2023
Quelle
IEEE Xplore
Beschreibungen/Notizen
Si anisotropic wet etching is applied to fabricate massive parallel microstructure arrays with novel optical properties. They can be used for enhancing light-concentration properties of mid-IR and long-IR focal plane arrays (FPAs), and for beam-shaping properties of IRLED arrays used in Infrared Scene Projectors (IRSPs).