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The electron affinities of O, Si, and S revisited with the photodetachment microscope
The European physical journal. D, Atomic, molecular, and optical physics, 2005-06, Vol.33 (3), p.335-342
BLONDEL, C
CHAIBI, W
DELSART, C
DRAG, C
GOLDFARB, F
KRÖGER, S
2005
Volltextzugriff (PDF)
Details
Autor(en) / Beteiligte
BLONDEL, C
CHAIBI, W
DELSART, C
DRAG, C
GOLDFARB, F
KRÖGER, S
Titel
The electron affinities of O, Si, and S revisited with the photodetachment microscope
Ist Teil von
The European physical journal. D, Atomic, molecular, and optical physics, 2005-06, Vol.33 (3), p.335-342
Ort / Verlag
Les Ulis: Springer
Erscheinungsjahr
2005
Quelle
2022 ECC(Springer)
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1434-6060
eISSN: 1434-6079
DOI: 10.1140/epjd/e2005-00069-9
Titel-ID: cdi_hal_primary_oai_HAL_hal_03089474v1
Format
–
Schlagworte
Atomic and molecular physics
,
Atomic Physics
,
Atomic properties and interactions with photons
,
Exact sciences and technology
,
Ionization potentials, electron affinities
,
Photodetachment of atomic negative ions
,
Photon interactions with atoms
,
Physics
,
Properties of atoms and atomic ions
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