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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Electrical characteristics of individual In-doped ZnO nanobelt field effect transistor
Ist Teil von
  • Wuli xuebao, 2014-10, Vol.63 (19), p.197302
Erscheinungsjahr
2014
Beschreibungen/Notizen
  • Back-gate field effect transistors based on In-doped ZnO individual nanobelts have been fabricated using the low-cost microgrid template method. The output (Ids-Vds) and transfer (Ids-Vgs) characteristic curves for the transistors are measured, and the mobility is derived to be 622 cm2· V-1· s-1. This value is obviously superior to those for most of materials including pure ZnO in the literature, and possible influence factors have also been discussed.
Sprache
Chinesisch; Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1000-3290
eISSN: 1000-3290
DOI: 10.7498/aps.63.197302
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_7498_aps_63_197302
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Weiterführende Literatur

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