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Advanced materials research, 2009, Vol.69-70, p.442-445
2009
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Study on Parameters Optimization in Ultra-Precise Processing of Germanium Substrate
Ist Teil von
  • Advanced materials research, 2009, Vol.69-70, p.442-445
Ort / Verlag
Trans Tech Publications Ltd
Erscheinungsjahr
2009
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • To improve efficiency in ultra-precision lapping germanium (Ge) substrate, a new ultra-precise process technology is introduced in this paper. Two steps ultra-precise process were semi bonded abrasive lapping in rough machining, and CMP process in finish machining. A good surface quality workpiece was obtained in semi bonded abrasive lapping process efficiently. Several machining parameters were compared and applied. After CMP process, the mirror-like surface of Ge substrate was obtained.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1022-6680, 1662-8985
eISSN: 1662-8985
DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMR.69-70.442
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_4028_www_scientific_net_AMR_69_70_442
Format

Weiterführende Literatur

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