UNIVERSI
TÄ
TS-
BIBLIOTHEK
P
ADERBORN
Anmelden
Menü
Menü
Start
Hilfe
Blog
Weitere Dienste
Neuerwerbungslisten
Fachsystematik Bücher
Erwerbungsvorschlag
Bestellung aus dem Magazin
Fernleihe
Einstellungen
Sprache
Deutsch
Deutsch
Englisch
Farbschema
Hell
Dunkel
Automatisch
Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist
gegebenenfalls
nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich.
mehr Informationen...
Universitätsbibliothek
Katalog
Suche
Details
Zur Ergebnisliste
Ergebnis 7 von 13
Datensatz exportieren als...
BibTeX
KRS: An Environmentally Robutst Resist Based on Fast Reaction kinetics
Journal of photopolymer science and technology, 1995, Vol.8 (4), p.525-534
Huang, Wu-Song
Katnani, Ahmad D.
Yang, Dominic
Brunsvold, Bill
Bantu, Rao
Khojasteh, Mahmoud
Sooriyakumaran, R.
Kwong, Ranee
Lee, Kim Y.
Hefferon, George
Orsula, George
Cameron, Jim
Denison, Mark
Sinta, Roger
Thackeray, Jim
1995
Volltextzugriff (PDF)
Details
Autor(en) / Beteiligte
Huang, Wu-Song
Katnani, Ahmad D.
Yang, Dominic
Brunsvold, Bill
Bantu, Rao
Khojasteh, Mahmoud
Sooriyakumaran, R.
Kwong, Ranee
Lee, Kim Y.
Hefferon, George
Orsula, George
Cameron, Jim
Denison, Mark
Sinta, Roger
Thackeray, Jim
Titel
KRS: An Environmentally Robutst Resist Based on Fast Reaction kinetics
Ist Teil von
Journal of photopolymer science and technology, 1995, Vol.8 (4), p.525-534
Erscheinungsjahr
1995
Quelle
EZB-FREE-00999 freely available EZB journals
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0914-9244
eISSN: 1349-6336
DOI: 10.2494/photopolymer.8.525
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_2494_photopolymer_8_525
Format
–
Weiterführende Literatur
Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von
bX