Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Zur Ergebnisliste
Ergebnis 7 von 29636
Open Access
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Evaluation of a Negative 193nm DUV Resist for the 45nm Node: Lithography, Degradation Kinetics during Etch and Implant
Journal of photopolymer science and technology, 2007, Vol.20 (3), p.345-352
2007
Volltextzugriff (PDF)

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Evaluation of a Negative 193nm DUV Resist for the 45nm Node: Lithography, Degradation Kinetics during Etch and Implant
Ist Teil von
  • Journal of photopolymer science and technology, 2007, Vol.20 (3), p.345-352
Erscheinungsjahr
2007
Quelle
EZB Free E-Journals
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0914-9244
eISSN: 1349-6336
DOI: 10.2494/photopolymer.20.345
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_2494_photopolymer_20_345
Format
–

Weiterführende Literatur

Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von bX