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High-Mobility Normally OFF Al 2 O 3 /AlGaN/GaN MISFET With Damage-Free Recessed-Gate Structure
IEEE electron device letters, 2018-11, Vol.39 (11), p.1720-1723
Zhang, Jialin
He, Liang
Li, Liuan
Ni, Yiqiang
Que, Taotao
Liu, Zhenxin
Wang, Wenjing
Zheng, Jiexin
Huang, Yanfen
Chen, Jia
Gu, Xin
Zhao, Yawen
He, Lei
Wu, Zhisheng
Liu, Yang
2018
Details
Autor(en) / Beteiligte
Zhang, Jialin
He, Liang
Li, Liuan
Ni, Yiqiang
Que, Taotao
Liu, Zhenxin
Wang, Wenjing
Zheng, Jiexin
Huang, Yanfen
Chen, Jia
Gu, Xin
Zhao, Yawen
He, Lei
Wu, Zhisheng
Liu, Yang
Titel
High-Mobility Normally OFF Al 2 O 3 /AlGaN/GaN MISFET With Damage-Free Recessed-Gate Structure
Ist Teil von
IEEE electron device letters, 2018-11, Vol.39 (11), p.1720-1723
Erscheinungsjahr
2018
Link zum Volltext
Quelle
IEEE Electronic Library Online
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0741-3106
eISSN: 1558-0563
DOI: 10.1109/LED.2018.2872637
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1109_LED_2018_2872637
Format
–
Weiterführende Literatur
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