Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Zur Ergebnisliste
Ergebnis 24 von 54
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Oxygen in titanium nitride diffusion barriers
Applied physics letters, , Vol.47 (5), p.471-473

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Oxygen in titanium nitride diffusion barriers
Ist Teil von
  • Applied physics letters, , Vol.47 (5), p.471-473
Ort / Verlag
Melville, NY: American Institute of Physics
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • Oxygen has been found to play a dominant role in TiN barrier performance between Si(100) and Al. When TiN is exposed to air prior to Al deposition, interdiffusion of the Si/TiN/Al structure is not observed until heating to a temperature of 560 °C, whereas the barrier fails already below 400 °C when Al is deposited in situ onto TiN.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
DOI: 10.1063/1.96151
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1063_1_96151
Format
–
Schlagworte
Applied sciences, Electronics, Exact sciences and technology, Interfaces, Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices

Weiterführende Literatur

Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von bX