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Applied physics letters, 2006-10, Vol.89 (16), p.161110-161110-3
2006
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Microdroplet deposition of copper film by femtosecond laser-induced forward transfer
Ist Teil von
  • Applied physics letters, 2006-10, Vol.89 (16), p.161110-161110-3
Ort / Verlag
American Institute of Physics
Erscheinungsjahr
2006
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
  • Copper microdroplets were deposited onto a quartz substrate by the laser-induced forward transfer (LIFT) using laser pulses of 148 fs at a center wavelength of 775 nm . The droplets with 2 - 3 μ m diameters were transferred at a laser pulse energy slightly above the threshold at which the copper film could be removed completely. The droplet formation was a result of the blow-off of a molten film from the quartz substrate by a compressive stress of plasma when the free surface was melted and was different from the microdroplet formation by the LIFT technique using nanosecond laser pulse.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
DOI: 10.1063/1.2364457
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1063_1_2364457
Format

Weiterführende Literatur

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