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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Wavelength-selective enhancement of the intensity of visible photoluminescence in hydrogen-ion-implanted silicon-on-insulator structures annealed under high pressure
Ist Teil von
  • Applied physics letters, 2006-07, Vol.89 (1), p.013106-013106-3
Ort / Verlag
American Institute of Physics
Erscheinungsjahr
2006
Link zum Volltext
Quelle
AIP Journals Complete
Beschreibungen/Notizen
  • Characteristic features of the visible photoluminescence (PL) spectra were studied in silicon-on-insulator (SOI) wafers following high-dose ( 3 × 10 17 cm − 2 ) ion implantation of hydrogen and annealing at high hydrostatic pressures. The PL behavior of the SOI material was compared with that of hydrogen-implanted bulk Si. Annealing at a pressure above 6 kbars produced a wavelength-selective increase ( ∼ 37 times) in the intensity of the visible PL from the implanted SOI structures. The results are explained in terms of the effect of an optical resonant cavity formed between the air/SOI and the Si ∕ Si O 2 interfaces as a result of the high-pressure annealing.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
DOI: 10.1063/1.2219146
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1063_1_2219146
Format

Weiterführende Literatur

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