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Metamorphic growth of InP on GaAs has been used to decrease the absorption recovery time of
1.55
μ
m
semiconductor saturable absorber mirrors. We show that the recovery time can be reliably controlled by changing the thickness of an InP "lattice reformation layer" grown between the GaAs-based distributed Bragg reflector and the active region. Semiconductor saturable absorber mirrors with a thickness of the InP reformation layer around 200 nm or smaller exhibit a recovery time short enough to reliably mode-lock fiber lasers.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
DOI: 10.1063/1.2053364
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1063_1_2053364
Format
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Weiterführende Literatur
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